此前報(bào)道：

　　據(jù)Wccftech報(bào)道，臺(tái)積電將把今年的資本支出增加到220億美元，這將比2020年增長(zhǎng)30%。現(xiàn)在臺(tái)積電正忙于提高先進(jìn)制程的產(chǎn)能，來鞏固其在全球半導(dǎo)體領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。

　　臺(tái)積電計(jì)劃2021年將5nm工藝制造的產(chǎn)能提高至10萬片/月，這數(shù)字高于市場(chǎng)此前的預(yù)期。由于采購極紫外光（EUV）光刻機(jī)的成本較高，臺(tái)積電原計(jì)劃2021年將撥出200億美元的資本支出，其中大部分將針對(duì)擴(kuò)大5nm生產(chǎn)、開發(fā)3nm的設(shè)施以及研發(fā)2nm工藝節(jié)點(diǎn)。

　　在11月份，臺(tái)積電獲得了1250億新臺(tái)幣的營收，根據(jù)相關(guān)機(jī)構(gòu)預(yù)測(cè)，2020年12月臺(tái)積電的營收達(dá)到1305億新臺(tái)幣，這將是月度營收首次超過1300億新臺(tái)幣。臺(tái)積電在2020年前11個(gè)月賺取1.2萬億新臺(tái)幣，同比增長(zhǎng)26.4%，其中11月營收同比增長(zhǎng)15.7%，季比增長(zhǎng)4.7%。臺(tái)積電勢(shì)頭有點(diǎn)不可阻擋，今年很大可能將保持這一增長(zhǎng)勢(shì)頭，預(yù)計(jì)今年?duì)I收將達(dá)1.5萬億新臺(tái)幣。

　　由于生產(chǎn)難度增大，5nm及以下節(jié)點(diǎn)在制造上需要大量使用EUV光刻機(jī)。數(shù)據(jù)顯示，臺(tái)積電的晶圓廠目前5nm的產(chǎn)能是每個(gè)月6萬片，預(yù)計(jì)今年下半年臺(tái)積電會(huì)把這個(gè)數(shù)字提高到每月10萬片。在3nm工藝節(jié)點(diǎn)上，初期產(chǎn)能將在每月1萬到3萬片之間，一旦工藝制造成熟，那么產(chǎn)能將可能超過5nm。